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更新時間:2026-03-13
瀏覽次數:27Hellma CaF2(氟化鈣)晶體是德國Hellma Materials公司研發的高性能光學材料,憑借寬譜透射、低色散及高激光耐久性等特性,成為半導體微光刻、高功率激光、空間光學等領域的重要應用材料。該晶體依托德國精密制造工藝,在光學精度和環境適應性上表現出穩定的性能優勢,滿足光學系統的嚴苛使用需求。
| 透射波段 | 130nm–8μm |
| 折射率(nd) | 1.43384 |
| 阿貝數(vd) | 95.23 |
| 單晶直徑 | 250mm |
| 熔點 | 1418°C |

Hellma CaF2晶體顯著的優勢是寬譜透射性能,覆蓋深紫外到紅外全光譜,在193nm、248nm等準分子激光關鍵波長下,10mm厚度晶體內部透射率可達99.4%以上,適配半導體光刻系統的光束傳輸需求。其低色散特性可有效減少光學色差,阿貝數遠超普通光學玻璃,保障高精度成像效果。
在制造工藝上,Hellma采用真空Stockbarger技術生長高純度單晶,可制備440mm直徑多晶,折射率均勻性控制在15ppm以內,應力雙折射低于3nm/cm RMS。該晶體具備良好的環境適應性,熱導率9.71 W/(m·K),可耐受太空輻射、高能激光脈沖等工況,廣泛應用于7nm及以下制程光刻機、天文觀測設備、高功率激光系統等場景,為光學裝備提供穩定的材料支撐。